继三星之后SK海力士也将在内存产线上使用EUV光刻机

摘要:

ASML的EUV光刻机已经成为7nm以下制程的关键了,三星、台积电、Intel都在购买单价高达10亿元的EUV光刻机用于生产。除了CPU之外,内存工艺也会逐步导入EUV光刻机,三星之后SK海力士也要这么做。

访问:

阿里云新用户福利专场 云服务器ECS低至102元/年

天翼云年中上云节 云主机1C2G 92元/年 实名注册送8888元大礼包

据韩国媒体报道,全球第二大DRAM内存供应商SK海力士已经在研发1a nm工艺的内存,内部代号“南极星”,具体节点大概在15nm,预计会引入EUV光刻机生产。

对内存来说,它跟CPU逻辑工艺一样面临着需要微缩的问题,EUV光刻机可以减少多重曝光工艺,提供工艺精度,从而可以减少生产时间、降低成本,并提高性能。

不过内存使用EUV工艺问题也不少,首要问题就是EUV光刻机售价太高,10亿一台,还要考虑到维护费用,所以初期要承担不小的成本压力。

目前SK海力士最先进的内存工艺主要是1y、1z nm,今年下半年这两种工艺将占到40%的产能比重。

3月初,三星表示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,明年基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片,预计会使12英寸晶圆的生产率翻番。

访问:

京东商城

查看评论
created by ceallan